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设备详细介绍
纳米压印系统
Nanoimprint System
发布时间:2013-01-16 |
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型
号:
Hex - 01
功
能:
半导体、光学和生物领域微纳结构的制备
Fabrication of micro- and
nano
- structures in semiconducting, optical and
biological areas
主要指标:
基片
(Wafers)
:
小于
150 mm
的各种基片
(
up to 150 mm wafers)
热压真空度
(Vacuum)
:
≦ 1 mbar
加热温度
(Temperature available)
:
up to 320 ℃
最大压力
(
Force available
)
:
up to 20
kN
UV
波长
(
Wavelength
)
:
365 nm
UV
最大功率
(Power available)
:
1.5
mW
/ cm
2
技术特点:
微纳结构的快速、廉价制备
Rapid fabrication of micro- and
nano-
structures
with low cost
具有热压印和紫外压印功能
Both hot embossing and UV imprinting capability
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