论文

The study on SiO2 pattern fabrication using Ge1.5Sn0.5Sb2Te5 as resists

论文编号:

作者:

Hongzhu Xi

刊物名称:

J. Nanosci. Nanotechnol.？

所属学科:

论文题目英文:

The study on SiO2 pattern fabrication using Ge1.5Sn0.5Sb2Te5 as resists

年:

2013

卷:

13

期:

页:

829-833

联系作者:

Qian Liu

收录类别:

影响因子:

参与作者:

备注:

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