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科研成果
带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜
专利名称:
带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜
英文名称:
Structure of Micro-focused Flms with Oxide Mask for Lithography
专利类别:
发明专利
申请号:
200710065294.6
申请日期:
2007-04-10
授权日期:
专利号:
第一发明人:
刘前
其它发明人:
曹四海 郭传飞 李晓军
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:
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