科研成果

一种低应力硅化合物超厚膜材料，制备方法及用途

专利名称:

一种低应力硅化合物超厚膜材料，制备方法及用途

英文名称:

一种低应力硅化合物超厚膜材料，制备方法及用途

专利类别:

发明

申请号:

201310451286.0

申请日期:

2013-9-7

授权日期:

2015-9-9

专利号:

ZL201310451286.0

第一发明人:

宋志伟

其它发明人:

褚卫国

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2015-9-9

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: