科研成果

一种硫系相变无机光刻胶的两步显影法

专利名称:

一种硫系相变无机光刻胶的两步显影法

英文名称:

专利类别:

发明授权

申请号:

CN201510024823.2

申请日期:

2015-01-19

授权日期:

2018-07-31

专利号:

ZL201510024823.2

第一发明人:

李建政

其它发明人:

刘前; 朱星; 张浩然

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2018-07-31

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: