科研成果

一种直接X射线探测结构、探测器及探测结构制作方法

专利名称:

一种直接X射线探测结构、探测器及探测结构制作方法

英文名称:

专利类别:

发明

申请号:

CN201710972261.3

申请日期:

2017-10-18 00:00:00

授权日期:

2019-06-14 00:00:00

专利号:

ZL201710972261.3

第一发明人:

戴庆

其它发明人:

李振军; 白冰; 李驰; 陈科; 周圣涵

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2019-06-14 00:00:00

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: