科研成果

一种图案化二氧化硅纳米结构的合成方法及其应用

专利名称:

一种图案化二氧化硅纳米结构的合成方法及其应用

英文名称:

专利类别:

发明

申请号:

CN202010127700.2

申请日期:

2020-02-28 00:00:00

授权日期:

2021-07-27 00:00:00

专利号:

ZL202010127700.2

第一发明人:

丁宝全

其它发明人:

李娜; 尚颖旭

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2021-07-27 00:00:00

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: