1、具体时间：4月13日周四下午2点
2、具体地点：新科研楼第四会议室
3、主讲人：张伟（中心2012届硕士毕业生），ASML高级工程师
中心2009级硕士研究生，导师为丁黎明研究员。毕业后在荷兰埃因霍温理工大学完成工程博士学位，专业为设备开发与技术，主要从事光电半导体相关工程化工作。
2016年加入荷兰ASML公司（全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备）。
先后在ASML设计与工程和客户支持等部门工作，参与过各类光刻机研发工作。目前在ASML担任高级工程师，负责光刻机集成测试分析和新产品定义等工作。
4、课程内容：
本次讲座主要分为四个部分：1. 光刻机主要原理，主要解释光刻机的主要工作原理和物理模型；2.光刻机中的核心技术，介绍光刻机中核心技术、组块和指标等；3. 光刻机开发中产品开发和项目管理，介绍基于光刻机开发实践中产品开发和项目管理；4. 从业感受和经验分享。
