科研成果

纳米线成像装置及群折射率测量方法

专利名称:

纳米线成像装置及群折射率测量方法

英文名称:

专利类别:

发明授权

申请号:

CN202211236686.5

申请日期:

2022-10-10

授权日期:

2025-04-15

专利号:

CN115684011B

第一发明人:

刘新风

其它发明人:

吴宪欣; 张帅; 杜文娜

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2025-04-15

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: