科研成果

一种通过透射谱计算微米级单晶的折射率、消光系数及厚度的方法

专利名称:

一种通过透射谱计算微米级单晶的折射率、消光系数及厚度的方法

英文名称:

专利类别:

发明授权

申请号:

CN202210796391.7

申请日期:

2022-07-06

授权日期:

2025-02-21

专利号:

CN115165802B

第一发明人:

刘新风

其它发明人:

姜传秀; 杜文娜

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2025-02-21

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: